刻蝕系統(tǒng) 參考價(jià):面議
刻蝕系統(tǒng)三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī),、RIE刻蝕機(jī),、原子層沉積系統(tǒng),、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備,,以滿足研發(fā)的要求,。樣品可以通過(guò)預(yù)真空...集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng) 參考價(jià):面議
集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī),、RIE刻蝕機(jī),、原子層沉積系統(tǒng),、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備,以滿足研發(fā)的要...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)